О компании     Как оплатить?     А в кредит можно?     А привезете?     А как вас найти?     А у меня сломалось...      
 
 
Компьютерный интернет-магазин
Товаров: 0
Сумма: 0
Курс (нал): 62.00
Безнал: 64.50
(499) 700-00-40
ICQ12325772 ICQ21969923  
 
 
 
 
 
 
 
 
Подарки выбери себе сам

Trade-In

Кредит

 
 

По словам компании SMIC, ее 14-нанометровый техпроцесс N+1 может частично конкурировать с 7-нанометровым

Выпуск продукции по новому техпроцессу в ограниченных масштабах должен начаться в четвертом квартале. Компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), являющаяся наиболее передовым и крупнейшим в Китае производителем полупроводниковой продукции, готовится перейти от 14-нм техпроцесса к техпроцессу, который она называет N+1.

Размеры логических элементов уменьшаются на 63%, а общая площадь SoC — на 55%. В частности, по сравнению с нынешним 14-нанометровым техпроцессом обеспечивается повышение производительности на 20 и снижение энергопотребления на 57%. С другой стороны, это компенсируется меньшей стоимостью, в честности, за счет меньшего числа масок. Эти показатели выводят N+1 на уровень 7-нанометровых техпроцессов конкурентов, исключая, разве что производительность.

Но со временем на EUV планируется перевести формирование некоторых слоев в N+2. В техпроцессе N+1 и следующем за ним N+2 литография в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) не используется.

Выпуск продукции по новому техпроцессу в ограниченных масштабах должен начаться в четвертом квартале. Компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), являющаяся наиболее передовым и крупнейшим в Китае производителем полупроводниковой продукции, готовится перейти от 14-нм техпроцесса к техпроцессу, который она называет N+1.

Размеры логических элементов уменьшаются на 63%, а общая площадь SoC — на 55%. В частности, по сравнению с нынешним 14-нанометровым техпроцессом обеспечивается повышение производительности на 20 и снижение энергопотребления на 57%. С другой стороны, это компенсируется меньшей стоимостью, в честности, за счет меньшего числа масок. Эти показатели выводят N+1 на уровень 7-нанометровых техпроцессов конкурентов, исключая, разве что производительность.

Но со временем на EUV планируется перевести формирование некоторых слоев в N+2. В техпроцессе N+1 и следующем за ним N+2 литография в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) не используется.

Дата публикации: 22-03-2020

Ещё новости


  13.03.2020  Ресурсов Земли может не хватить на будущие смартфоны

ЕК обяжет производителей дольше поддерживать смартфоны, под этим понимается обновления программного обеспечения, сервисная поддержка и выпуск комплектующих. Европейская комиссия — высший орган исполнительной...

  26.03.2020  Борьба с коронавирусом подогреет спрос на видеокарты NVIDIA

Система распределённых вычислений многократно превзошла по своим возможностям самый производительный суперкомпьютер мира, пусть и в достаточно узкой сфере применения. По знамёна борьбы с коронавирусом...

  01.04.2020  OnePlus 8 Pro уступает по скорости более доступному Redmi K30 Pro

Информацией поделился генеральный директор и соучредитель компании Пит Лау (Pete Lau). Компания OnePlus раскрыла некоторые подробности об аппаратной начинке флагманских смартфонов OnePlus 8. Стоит отметить,...

  23.03.2020  LG G9 станет среднеуровневым смартфоном с чипсетом Snapdragon 765G и поддержкой 5G

Южнокорейский производитель будет продавать флагманы с поддержкой 5G (например, LG V60) в Северной Америке и Западной Европе, а чуть более упрощенные модели (LG G9) в других регионах (включая Южную Корею)....

  27.03.2020  Intel готова помогать обездоленным в условиях пандемии

Компания Intel, в частности, заявила о выделении $4 млн на благотворительные цели, связанные с пандемией, в тех регионах планеты, где осуществляют деятельность её представительства и производственные партнёры....



Все новости
 
 
  © 2003-2020 Ноутбуки и компьютеры
Все права защищены